[发明专利]一种对准4F光学系统

摘要

本发明提出了一种用于光刻设备的对准4F光学系统，用于把物面上硅片对准标记成像在参考光栅板后表面，其特征在于，从物面开始沿光轴依次包括前组透镜L1、L2、L3，经偏振分束器PBS组件分光后，分为红光后组透镜L4、L5、L6和绿光后组透镜L4'、L5'、L6'。本发明提出的一种4F光学系统，具有较长的前工作距L，其与前组焦距fL之比达0.816；透镜的口径较小，其有效通光口径与前组焦距之比小至0.61；几乎将标记的各级次衍射光均成像在参考光栅后表面上，各干涉像的纵向范围小于2.2um；各级次像波前像差很小，均小于0.05λ；结构前后对称，光线很流畅地通过各透镜，因此公差很松，易于加工与装调。

主权项

一种用于光刻设备的对准4F光学系统，用于把物面上硅片对准标记成像在参考光栅板后表面，其特征在于，从物面开始沿光轴依次包括前组透镜L1、L2、L3，经偏振分束器PBS组件分光后，分为红光后组透镜L4、L5、L6和绿光后组透镜L4’、L5’、L6’，所述透镜L1、L2、L3全部为球面镜，光焦度均为正；所述透镜L1、L2、L3之间焦距满足以下关系式：   0.316

下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。 免登录下载普通用户下载升级VIP会员，免费下载

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】

本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210005216.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。