[发明专利]曝光装置在审
申请号: | 201180053476.6 | 申请日: | 2011-10-17 |
公开(公告)号: | CN103250231A | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 水村通伸 | 申请(专利权)人: | 株式会社V技术 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人: | 权鲜枝 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明是曝光装置,其具备图案生成器(3),图案生成器(3)在与被曝光体(6)的面平行的面内配置有多个光开关(11),光开关(11)包括:开关元件(9),其在与包含电光晶体材料的棱柱状的部件的长轴平行的相对面分别设置电极而形成;以及一对偏振板(12A、12B),其中间隔着该开关元件(9)呈正交尼科尔配置在该开关元件(9)的长轴方向的两端面侧,该曝光装置单独地驱动多个光开关(11)而生成恒定的明暗花纹的曝光图案,将该曝光图案照射到被曝光体(6)进行曝光,上述曝光装置具备多个微透镜(17),多个微透镜(17)使其光轴分别与各开关元件(9)的长的中心轴一致地设置于图案生成器(3)的光出射面侧,将开关元件(9)的光出射端面(9a)的像缩小投影到被曝光体(6)上。由此,可容易进行曝光区域的扩大。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 | ||
【主权项】:
一种曝光装置,其具备图案生成器,该图案生成器具有多个光开关,上述多个光开关在与被曝光体的面平行的面内配置,该光开关包括:开关元件,其通过在与包含电光晶体材料的棱柱状的部件的长轴平行的相对面分别设置电极而形成;以及一对偏振元件,其中间隔着该开关元件且呈正交尼科尔地配置在该开关元件的长轴方向的两端面侧,上述曝光装置单独地驱动上述多个光开关而生成恒定的明暗花纹的曝光图案,将该曝光图案照射到被曝光体上进行曝光,上述曝光装置的特征在于,上述曝光装置具备多个微透镜,上述多个微透镜使其光轴分别与上述各开关元件的长的中心轴一致地设于上述图案生成器的光出射面侧,将上述开关元件的光出射端面的像缩小投影到上述被曝光体上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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