[发明专利]用于化学机械抛光电子、机械和光学器件用基底材料的含水抛光组合物和方法有效
| 申请号： | 201180053056.8 | 申请日： | 2011-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN103189457A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | Y·李;J-J·楚;S·S·文卡塔拉曼;S·A·奥斯曼易卜拉欣;H·W·平德尔 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/04;C09G1/18;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 刘金辉;林柏楠 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种含水抛光组合物，其包含：(A)当其分散在pH为3-9的含水介质中时带正电荷的磨料颗粒，这通过电泳淌度证明；(B)水溶性和水分散性的含羟基组分，其选自：(b1)脂族和脂环族羟基羧酸，其中羟基与羧酸基的摩尔比例为至少1；(b2)具有至少一个羟基的羟基羧酸(b1)的酯和内酯；和(b3)其混合物；以及(C)选自以下的水溶性和水分散性聚合物组分：(c1)线性和支化的氧化烯烃聚合物；(c2)线性和支化的脂族和脂环族聚(N-乙烯基酰胺)聚合物；和(c3)重均分子量小于100,000道尔顿的阳离子聚合絮凝剂；以及一种抛光电子、机械和光学器件用基底材料的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 电子 机械 光学 器件 基底 材料 含水 抛光 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种含水抛光组合物，其包含：(A)至少一种类型的磨料颗粒，当其分散在pH为3‑9的含水介质中时带正电荷，这通过电泳淌度证明；(B)至少一种水溶性和水分散性的含羟基组分，其选自：(b1)在分子上具有至少两个碳原子、至少一个羟基和至少一个羧酸基的脂族和脂环族羟基羧酸，其中羟基与羧酸基的摩尔比例为至少1；(b2)具有至少一个选自内酯基、酯化羟基、酯化羧酸基及其混合物的基团的羟基羧酸(b1)酯，其条件是至少一个羟基存在于(b2)中；和(b3)其混合物；以及(C)至少一种选自以下的水溶性和水分散性聚合物组分：(c1)线性和支化的氧化烯烃均聚物和共聚物；(c2)线性和支化的脂族和脂环族聚(N‑乙烯基酰胺)均聚物和共聚物；和(c3)重均分子量小于100,000道尔顿的阳离子聚合絮凝剂。
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