[发明专利]溶剂可溶型反应性聚硅氧烷的制造方法有效

专利信息
申请号: 201180051763.3 申请日: 2011-12-14
公开(公告)号: CN103180369A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 北村昭宪;古田尚正;铃木浩 申请(专利权)人: 东亚合成株式会社
主分类号: C08G77/20 分类号: C08G77/20;C08G77/06
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明是溶剂可溶型聚硅氧烷的制造方法,其具有以下的缩合工序:在催化剂的存在下,将包含具有(甲基)丙烯酰基和硅氧烷键生成基团的有机硅化合物(S1)和从四烷氧基硅烷和四卤代硅烷中选择的至少1种的硅化合物(S2)的具有硅氧烷键生成基团的原料化合物水解共聚缩合,合成通式(1)所示的反应性聚硅氧烷,在缩合工序中,以摩尔比(S2)/(S1)成为1.8以下的方式使用有机硅化合物(S1)和硅化合物(S2),缩合工序是在包含有机硅化合物(S1)和水的原料液中慢慢添加硅化合物(S2)和上述催化剂的混合物而进行,边在0.001/分钟~0.3/分钟之间维持硅化合物(S2)的使用量与有机硅化合物(S1)的使用量的摩尔比边添加该混合物。
搜索关键词: 溶剂 可溶 反应 性聚硅氧烷 制造 方法
【主权项】:
1.溶剂可溶型反应性聚硅氧烷的制造方法,是具备以下缩合工序的溶剂可溶型反应性聚硅氧烷的制造方法:在催化剂的存在下,将具有硅氧烷键生成基团的原料化合物水解共聚缩合,合成由下述通式(1)所示的反应性聚硅氧烷,所述原料化合物包含由下述通式(5)所示的有机硅化合物(S1)与从四烷氧基硅烷和四卤代硅烷中选择的至少1种硅化合物(S2),[化1]通式(5)中,R0为由下述通式(2)所示的有机基团;R1为包含至少1个碳原子数为1~10的官能团的有机基团,R11为硅氧烷键生成基团,n为0或1;其特征在于,上述缩合工序中,以摩尔比(S2)/(S1)成为1.8以下的方式使用上述有机硅化合物(S1)和上述硅化合物(S2),上述缩合工序是在包含由上述通式(5)所示的有机硅化合物(S1)和水的原料液中慢慢地添加硅化合物(S2)和上述催化剂的混合物而进行,边在0.001/分钟~0.3/分钟之间维持上述硅化合物(S2)的使用量相对于上述有机硅化合物(S1)的使用量的摩尔比边添加该混合物,[化2]通式(1)中,R0为由下述通式(2)所示的有机基团,R1为包含至少1个碳原子数为1~10的官能团的有机基团,R2、R3和R4各自独立地为氢原子或碳原子数为1~10的烃基,R5为碳原子数为1~6的烃基,n为0或1,a、w、x、y和z表示摩尔数,a和w为正数,x、y和z为0或正数,0<a/w≤1.8、0≤x/(a+w)≤2、0≤y/(a+w)≤2、0≤z/(a+w+x+y)≤1,[化3]通式(2)中,R6为氢原子或甲基,R7为碳原子数为1~6的亚烷基。
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