[发明专利]基于气体团簇离子束技术的中性射束处理方法和设备有效
| 申请号： | 201180051189.1 | 申请日： | 2011-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN103180030B | 公开（公告）日： | 2017-04-12 |
| 发明（设计）人： | 肖恩·R·柯克帕特里克;艾伦·R·柯克帕特里克 | 申请（专利权）人： | 艾克索乔纳斯公司 |
| 主分类号： | B01D59/00 | 分类号： | B01D59/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司11278 | 代理人： | 杨帆 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供用于处理材料的来自加速气体团簇离子束的加速中性射束的设备、方法和产品。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 气体 离子束 技术 中性 处理 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种处理工件表面的方法，其特征在于，包括以下步骤：提供减压室；在所述减压室中形成包含气体团簇离子的气体团簇离子束；在所述减压室中加速所述气体团簇离子以形成沿射束路径的加速气体团簇离子束；通过增大在所述加速气体团簇离子束中的离子速度范围来促使至少一部分沿射束路径的所述加速气体团簇离子分裂和/或离解；在所述减压室中从射束路径中去除带电粒子以形成沿射束路径的加速中性射束；在所述射束路径中保持工件；以及用所述加速中性射束辐照处理所述工件的至少一部分表面。
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