[发明专利]控制离子能量分布的系统、方法和装置在审
| 申请号： | 201180046783.1 | 申请日： | 2011-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN103155717A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | V·布劳克;R·赫克曼;D·J·霍夫曼 | 申请（专利权）人： | 先进能源工业公司 |
| 主分类号： | H05H1/36 | 分类号： | H05H1/36;C23C16/52;H01L21/3065;C23C14/54;C23F1/08 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 舒雄文;王英 |
| 地址： | 美国科*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了等离子室内的用于调节离子能量的系统、方法和装置。示例性方法包括：在等离子体室内放置衬底；在所述等离子体室内形成等离子体；对所述衬底可控地开关电能，以便向所述衬底施加周期电压函数；以及在所述周期电压函数的多个周期期间，响应于所述衬底的表面的期望离子能量分布来调制所述周期电压函数，以便在时间平均的基础上实现所述期望离子能量分布。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 离子 能量 分布 系统 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种用于基于等离子体的处理的系统，包括：等离子体处理室，配置为包含等离子体；衬底支承部，位于所述等离子体处理室内并设置为支承衬底；离子能量控制部，所述离子能量控制部响应于至少一个离子能量分布设定来提供至少一个离子能量控制信号，所述至少一个离子能量分布设定表示在所述衬底的表面的期望分布离子能量分布；开关模式电源，耦合到所述衬底支承部和所述离子能量控制部，所述开关模式电源包括一个或者多个开关部件，所述一个或者多个开关部件配置为响应于所述离子能量控制信号来对所述衬底供电，以便在所述衬底的所述表面实现所述期望离子能量分布；以及离子电流补偿部件，耦合到所述衬底支承部，所述离子电流补偿部件实现所述离子能量分布的可控宽度。
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