[发明专利]曝光装置有效

专利信息
申请号: 201180044697.7 申请日: 2011-08-16
公开(公告)号: CN103210344A 公开(公告)日: 2013-07-17
发明(设计)人: 水村通伸 申请(专利权)人: 株式会社V技术
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/13
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 何欣亭;王忠忠
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 曝光装置(1)通过将液晶显示装置的各像元或者像素在宽度方向分割为2个部分并从不同的方向曝光,使取向材料膜进行光取向。曝光装置使从2个光源(第1光源(11)和第2光源(12))射出的2个曝光光(11a、12a),透射掩模(13)的预定的图案的分别不同的光透射区域,照射到与在曝光对象部件(2)上形成的取向材料膜的各像元或者像素的各分割区域对应的区域。曝光装置使2个曝光光在第1和第2光源与取向材料膜之间的光路上互相交叉。由此,在取向分割方式的曝光装置中,即使在需要减小曝光光相对于曝光对象面倾斜的角度的情况下,也能以预定的图案将取向材料膜正常曝光,能够使曝光装置小型化。
搜索关键词: 曝光 装置
【主权项】:
一种曝光装置,通过将取向材料膜的与液晶显示装置的各像元对应的部分在其宽度方向分割为2个部分并从不同的方向进行曝光,使取向材料膜进行光取向,其特征在于,具有:第1和第2光源,射出曝光光;掩模,形成有使来自所述第1和第2光源的曝光光透射的多个光透射区域分别排列为1列的第1光透射区域组和第2光透射区域组;以及掩模支持部,配置在所述第1光源侧并支持所述掩模,所述第1和第2光透射区域组在所述取向材料膜的对于所述掩模的相对的扫描方向隔离配置,多个光透射区域分别与1个像元的在宽度方向被分割的一半的区域对应,所述第1光透射区域组的光透射区域与所述第2光透射区域组的光透射区域相互之间隔开间隔排列,使得在所述扫描方向不会重叠,使来自所述第1光源和所述第2光源的曝光光在所述第1和第2光源与所述取向材料膜之间的光路上互相交叉,照射到所述取向材料膜的与各像元的各分割区域对应的区域。
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