[发明专利]应用确定波长的光通量处理衬底的工艺以及相应衬底

摘要

本发明尤其涉及一种用确定波长的光通量（IR）来处理衬底的工艺，所述衬底包括嵌入层（3），所述嵌入层（3）具有吸收性，也即，所述嵌入层（3）独立于温度吸收所述光通量，所述嵌入层插入于第一层（2），所述处理层，和第二层（4）之间，第一半导体层（2）具有光通量的吸收系数，所述吸收系数在环境温度中较低并且随着温度的升高而增加，根据所述工艺，通过所述光通量（IR）的至少一个脉冲来照射所述第一层（2）。该工艺尤其值得注意的是-所述光通量（IR）被施加到第一层（2）的表面的几处地方，以便加热嵌入层（3）的区域，并且在所述第一层（2）中，通过相对于所述嵌入层（3）的被加热区域的热前缘的传播而生成被加热区带，所述被加热区带形成热支柱（P），所述热支柱（P）通过嵌入层（3）膨胀并且在第二层（4）之内生成约束。

主权项

一种用确定波长的光通量（IR）来处理衬底（1）的工艺，所述衬底（1）包括嵌入层（3），所述嵌入层（3）具有吸收性，也即，所述嵌入层（3）能独立于温度吸收所述光通量，所述嵌入层插入于第一层（2），所述处理层，和第二层（4）之间，第一半导体层（2）具有光通量的吸收系数，所述吸收系数在环境温度中较低并且随着温度的升高而增加，根据所述工艺，其中在所述嵌入层（3）的方向上，通过所述光通量（IR）的至少一个脉冲来照射所述第一层（2），其特征在于‑所述光通量（IR）被施加在所述第一层（2）的表面的几处地方，以便加热所述嵌入层（3）的区域，并且在所述第一层（2）中，通过相对于所述嵌入层（3）的被加热区域的热前缘的传播而生成被加热区带，所述被加热区带形成热支柱（P），所述热支柱（P）通过所述嵌入层（3）膨胀并且在所述第二层（4）之内生成约束，以及在于‑进行照射以产生足够的约束，以便在所述第二层（4）中，在所述第二层（4）与所述嵌入层（3）的接触面（I）的附近开始初期断裂，至少产生使得该区域脆化的结构性缺陷。