[发明专利]分离膜元件以及制造复合半透膜的方法在审
申请号: | 201180039330.6 | 申请日: | 2011-08-03 |
公开(公告)号: | CN103025412A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 小川贵史;木村将弘;佐佐木崇夫 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | B01D71/56 | 分类号: | B01D71/56;B01D69/10;B01D69/12 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 韦欣华;李进 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的一个目的在于提供具有低的可提取组分含量以及高的硼去除性能和高的水渗透性的分离膜元件,还涉及包括复合半透膜的分离膜元件,所述复合半透膜包括微孔支撑体和沉积在其上的聚酰胺分离功能层,所述微孔支撑体包括基材和多孔支撑层,其中聚酰胺分离功能层的黄度为10-40,并且从基材提取的物质浓度为1.0×10-3wt%或更低。 | ||
搜索关键词: | 分离 元件 以及 制造 复合 半透膜 方法 | ||
【主权项】:
分离膜元件,其包括复合半透膜,所述复合半透膜包括微孔支撑体和沉积在其上的聚酰胺分离功能层,所述微孔支撑体包括基材和多孔支撑层,其中聚酰胺分离功能层的黄度为10‑40,并且从基材提取的物质浓度为1.0×10‑3wt%或更低。
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