[发明专利]具有单侧发射线圈组阵列的用于影响和/或检测视场内的磁颗粒的设备和方法有效
| 申请号： | 201180008587.5 | 申请日： | 2011-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN102753091A | 公开（公告）日： | 2012-10-24 |
| 发明（设计）人： | T·M·布祖格;T·F·萨特尔;T·克内普;S·彼德雷尔 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | A61B5/05 | 分类号： | A61B5/05;G01R33/38 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于影响和/或检测视场内的磁颗粒的设备和方法。为了增大视场，同时允许在成像过程中接近患者，所述设备包括两个或更多个发射线圈组（200），其中，相邻线圈组部分重叠，所述发射线圈组包括：一对（210）同心布置的选择场线圈（211，212），其用于生成磁选择场（50），所述磁选择场的磁场强度具有空间图案，从而在所述视场（28）内形成具有低磁场强度的第一子区（52）和具有较高磁场强度的第二子区（54），以及至少一对（220，230）驱动场线圈（221，222；231，232），其用于利用磁驱动场改变所述视场（28）内的两个子区（52，54）的空间位置，从而使磁颗粒的磁化发生局部变化，所述至少一对（220，230）驱动场线圈被布置成与所述对（210）选择场线圈（211，212）平行，并且由两个相邻的线圈环形成。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 发射 线圈 阵列 用于 影响 检测 视场 颗粒 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于影响和/或检测视场（28）中的磁颗粒的设备（100），所述设备包括：i）两个或更多个发射线圈组（200），其中，相邻线圈组部分重叠，发射线圈组（200）包括：‑一对（210）同心布置的选择场线圈（211，212），其用于生成磁选择场（50），所述磁选择场的磁场强度具有空间图案，从而在所述视场（28）中形成具有低磁场强度的第一子区（52）和具有较高磁场强度的第二子区（54），以及‑至少一对（220，230）驱动场线圈（221，222；231，232），其用于利用磁驱动场改变所述视场（28）中的两个子区（52，54）的空间位置，从而使所述磁颗粒的磁化发生局部变化，所述至少一对（220，230）驱动场线圈被布置成与所述对（210）选择场线圈（211，212）平行，并且由两个相邻的线圈环形成，ii）发生器器件（420），其用于生成电流信号，所述电流信号用于提供给所述选择场线圈和所述驱动场线圈，从而由所述线圈生成预期的磁场，以及iii）控制器件（430），其用于控制所述发生器器件（420），以生成用于提供给所述对（210）选择场线圈的所述两个选择场线圈（211，212）的反向直流以及用于提供给所述至少一对（220，230）驱动场线圈的所述两个驱动场线圈（221，222；231，232）的反向交流。
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