[发明专利]表面微细构造的形成方法以及具有表面微细构造的基体无效
| 申请号： | 201180008380.8 | 申请日： | 2011-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN102741010A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 额贺理;山本敏;寒川诚二;杉山正和 | 申请（专利权）人： | 株式会社藤仓;技术研究组合BEANS研究所;国立大学法人东京大学 |
| 主分类号： | B23K26/32 | 分类号： | B23K26/32;B23K26/00;B23K26/36;C03C15/00;C03C23/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李伟;王轶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种表面微细构造的形成方法，该方法包括：第一工序，准备具有加工合适值的基板，以接近于上述基板的上述加工合适值的照射强度、或者以加工合适值以上且烧蚀阈值以下的照射强度，对与上述基板的表面接近的部分照射具有皮秒量级以下的脉冲时间宽度的激光，在上述激光聚光的焦点以及接近于该焦点的区域中以自组织的方式形成周期性地配置第一改性部与第二改性部的周期构造；和第二工序，通过对形成有上述周期构造的上述基板的表面进行蚀刻处理，形成使上述第一改性部为凹部的凹凸构造。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 微细 构造 形成 方法 以及 具有 基体 | ||
【主权项】：
一种表面微细构造的形成方法，其特征在于，包括：第一工序，准备具有加工合适值的基板，以接近于上述基板的上述加工合适值的照射强度、或者以加工合适值以上且烧蚀阈值以下的照射强度，对与上述基板的表面接近的部分照射具有皮秒量级以下的脉冲时间宽度的激光，在上述激光聚光的焦点以及接近于该焦点的区域中以自组织的方式形成第一改性部与第二改性部周期性地配置的周期构造；和第二工序，通过对形成有上述周期构造的上述基板的表面进行蚀刻处理，形成使上述第一改性部为凹部的凹凸构造。
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