[发明专利]光电设备通过光学涂层局部剥离而实现的精细线金属敷镀有效
申请号: | 201180002971.4 | 申请日: | 2011-02-15 |
公开(公告)号: | CN102576767A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | O·舒尔茨-韦特曼;D·克拉夫茨;D·德赛斯特;A·特纳 | 申请(专利权)人: | 泰特拉桑有限公司 |
主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042;H01L31/18 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 张文达 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种光电设备中的需要导电触点的层上的金属栅格触点和介电图案。本发明在一个方面包括,形成金属膜;通过使用例如喷墨或丝网印刷而例如直写和原位固化抗蚀刻体,在金属膜上形成抗蚀刻体;蚀刻金属膜,在不触动抗蚀刻图案的情况下,蚀刻金属膜,从而留下抗蚀刻图案和金属栅格触点图案;在抗蚀刻图案上形成介电层;以及移除抗蚀刻图案和抗蚀刻图案上的介电,留下基本上共面的金属栅格触点和介电图案。金属栅格触点图案可以形成太阳能电池的前部和/背部触点电极;并且介电层可以是太阳能电池的光学抗反射层或光学反射层。需要导电触点的层可以是提供其自身钝化的多功能层,以使得介电层中基本上不需要钝化。 | ||
搜索关键词: | 光电 设备 通过 光学 涂层 局部 剥离 实现 精细 金属 | ||
【主权项】:
一种将金属栅格触点和介电图案形成到需要导电触点的太阳能电池层上的方法,其包括:在太阳能电池层上形成金属膜;在金属膜上形成抗蚀刻图案;蚀刻金属膜,因而使抗蚀刻图案以及在抗蚀刻图案之下的金属栅格触点图案保持原样,同时暴露所述太阳能电池层的其他部分;在抗蚀刻图案和太阳能电池层的暴露部分上形成介电层;以及移除抗蚀刻图案和位于抗蚀刻图案上的介电体,从而在需要导电触点的太阳能电池层上留下基本上共面的金属栅格触点和介电图案。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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