[发明专利]光电设备通过光学涂层局部剥离而实现的精细线金属敷镀有效

专利信息
申请号: 201180002971.4 申请日: 2011-02-15
公开(公告)号: CN102576767A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: O·舒尔茨-韦特曼;D·克拉夫茨;D·德赛斯特;A·特纳 申请(专利权)人: 泰特拉桑有限公司
主分类号: H01L31/042 分类号: H01L31/042;H01L31/18
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 张文达
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种光电设备中的需要导电触点的层上的金属栅格触点和介电图案。本发明在一个方面包括,形成金属膜;通过使用例如喷墨或丝网印刷而例如直写和原位固化抗蚀刻体,在金属膜上形成抗蚀刻体;蚀刻金属膜,在不触动抗蚀刻图案的情况下,蚀刻金属膜,从而留下抗蚀刻图案和金属栅格触点图案;在抗蚀刻图案上形成介电层;以及移除抗蚀刻图案和抗蚀刻图案上的介电,留下基本上共面的金属栅格触点和介电图案。金属栅格触点图案可以形成太阳能电池的前部和/背部触点电极;并且介电层可以是太阳能电池的光学抗反射层或光学反射层。需要导电触点的层可以是提供其自身钝化的多功能层,以使得介电层中基本上不需要钝化。
搜索关键词: 光电 设备 通过 光学 涂层 局部 剥离 实现 精细 金属
【主权项】:
一种将金属栅格触点和介电图案形成到需要导电触点的太阳能电池层上的方法,其包括:在太阳能电池层上形成金属膜;在金属膜上形成抗蚀刻图案;蚀刻金属膜,因而使抗蚀刻图案以及在抗蚀刻图案之下的金属栅格触点图案保持原样,同时暴露所述太阳能电池层的其他部分;在抗蚀刻图案和太阳能电池层的暴露部分上形成介电层;以及移除抗蚀刻图案和位于抗蚀刻图案上的介电体,从而在需要导电触点的太阳能电池层上留下基本上共面的金属栅格触点和介电图案。
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