[发明专利]表面发射激光器器件、表面发射激光器阵列、光学扫描仪和成像设备有效

专利信息
申请号: 201180002926.9 申请日: 2011-05-18
公开(公告)号: CN102474073A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 原坂和宏;佐藤俊一;林昌弘;伊藤彰浩;花冈克成 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;B41J2/44
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王冉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种表面发射激光器器件,包括设置在发射区域内并被构造成导致在发生区域内在周边部分的反射率不同于在中心部分的反射率的透明介电层。在表面发射激光器器件中,在发射区域中,接触层的厚度在具有相对高反射率的区域和具有相对低反射率的区域之间不同。接触层设置在上部多层膜反射镜的高折射率层上,并且在具有相对低反射率的区域内,高折射率层和接触层的总光学厚度偏离从发射区域发射的激光的四分之一振荡波长的奇数倍。
搜索关键词: 表面 发射 激光器 器件 阵列 光学 扫描仪 成像 设备
【主权项】:
一种表面发射激光器器件,包括:下部多层膜反射镜;具有有源层的谐振器结构;上部多层膜反射镜;其上设置电极的接触层;衬底,在衬底上层叠所述下部多层膜反射镜、谐振器结构、上部多层膜反射镜和接触层;以及透明介电层,该透明介电层设置在由电极围绕的发射区域内,并且构造成导致在发射区域中,在周边部分的反射率与在中心部分的反射率不同,其中,在发射区域中,接触层的厚度在具有相对高反射率的区域和具有相对低反射率的区域之间不同,其中,接触层设置在上部多层膜反射镜的高折射率层上,其中,在具有相对低反射率的区域内,所述高折射率层和接触层的总光学厚度偏离从发射区域发射的激光的振荡波长的四分之一的奇数倍,并且在具有相对高反射率的区域和具有相对低反射率的区域之间的反射率差大于其中高折射率层和接触层的总光学厚度是四分之一振荡波长的奇数倍的情况下的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光,未经株式会社理光许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180002926.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top