[发明专利]表面发射激光器器件、表面发射激光器阵列、光学扫描仪和成像设备有效
申请号: | 201180002926.9 | 申请日: | 2011-05-18 |
公开(公告)号: | CN102474073A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | 原坂和宏;佐藤俊一;林昌弘;伊藤彰浩;花冈克成 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | H01S5/183 | 分类号: | H01S5/183;B41J2/44 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王冉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种表面发射激光器器件,包括设置在发射区域内并被构造成导致在发生区域内在周边部分的反射率不同于在中心部分的反射率的透明介电层。在表面发射激光器器件中,在发射区域中,接触层的厚度在具有相对高反射率的区域和具有相对低反射率的区域之间不同。接触层设置在上部多层膜反射镜的高折射率层上,并且在具有相对低反射率的区域内,高折射率层和接触层的总光学厚度偏离从发射区域发射的激光的四分之一振荡波长的奇数倍。 | ||
搜索关键词: | 表面 发射 激光器 器件 阵列 光学 扫描仪 成像 设备 | ||
【主权项】:
一种表面发射激光器器件,包括:下部多层膜反射镜;具有有源层的谐振器结构;上部多层膜反射镜;其上设置电极的接触层;衬底,在衬底上层叠所述下部多层膜反射镜、谐振器结构、上部多层膜反射镜和接触层;以及透明介电层,该透明介电层设置在由电极围绕的发射区域内,并且构造成导致在发射区域中,在周边部分的反射率与在中心部分的反射率不同,其中,在发射区域中,接触层的厚度在具有相对高反射率的区域和具有相对低反射率的区域之间不同,其中,接触层设置在上部多层膜反射镜的高折射率层上,其中,在具有相对低反射率的区域内,所述高折射率层和接触层的总光学厚度偏离从发射区域发射的激光的振荡波长的四分之一的奇数倍,并且在具有相对高反射率的区域和具有相对低反射率的区域之间的反射率差大于其中高折射率层和接触层的总光学厚度是四分之一振荡波长的奇数倍的情况下的。
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