[实用新型]研磨头和研磨装置有效
| 申请号： | 201120571430.0 | 申请日： | 2011-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN202428311U | 公开（公告）日： | 2012-09-12 |
| 发明（设计）人： | 冯惠敏 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/20 | 分类号： | B24B37/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种研磨头，包括用于限制晶圆位移的限位环，还包括一研磨液供给管与若干喷管，所述限位环的上部内侧设有一圆环型的导流槽，所述研磨液供给管的一端外接研磨液源，研磨液供给管的另一端与导流槽相连通，所述若干喷管分布于所述限位环的上部外周，且所述若干喷管分别与所述导流槽相连通。通过将研磨液供给管从现有的位于研磨头的外侧改成位于研磨头的内侧，一方面，可以避免研磨液结晶到研磨液供给管上，从而可以避免研磨液结晶物质掉落到研磨垫上而发生晶圆刮伤现象，另一方面，可以避免研磨液供给管和研磨头因碰擦产生颗粒物质，这两个方面都可以有效减少颗粒物质的产生，进而防止晶圆被颗粒物质刮伤，从而有效提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 装置 | ||
【主权项】：
一种研磨头，包括用于限制晶圆位移的限位环，其特征在于，还包括一研磨液供给管与若干喷管，所述限位环的上部内侧设有一圆环型的导流槽，所述研磨液供给管的一端外接研磨液源，所述研磨液供给管的另一端与所述导流槽相连通，所述若干喷管分布于所述限位环的上部外周，且所述若干喷管分别与所述导流槽相连通。
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