[实用新型]用于化学机械研磨的固定环有效
| 申请号： | 201120545807.5 | 申请日： | 2011-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN202367586U | 公开（公告）日： | 2012-08-08 |
| 发明（设计）人： | 黄孝鹏;张巧峰 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/27 | 分类号： | B24B37/27 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于化学机械研磨的固定环，适于固定一晶片，所述固定环包括：一环形本体，其内部开设有一环形通道；至少一个第一孔，分布在环形本体的外壁上，且与环形通道连通；多个第二孔，均匀分布在环形本体的内壁上，且与环形通道连通，当化学机械研磨工艺被中断时，通过由固定环内壁孔中喷射出的保护液清洗金属表面的研磨液，可防止金属被腐蚀，减少在后续工艺中金属表面产生擦痕，并且延长机器检修时间。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械 研磨 固定 | ||
【主权项】：
一种用于化学机械研磨的固定环，适于固定一晶片，其特征在于，所述固定环包括：一环形本体，其内部开设有一环形通道；至少一个第一孔，分布在环形本体的外壁上，且与环形通道连通；多个第二孔，均匀分布在环形本体的内壁上，且与环形通道连通。
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