[实用新型]一种非致冷红外探测装置有效
申请号: | 201120461515.3 | 申请日: | 2011-11-18 |
公开(公告)号: | CN202329818U | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 赖建军 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G01J5/00 | 分类号: | G01J5/00 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型公开了非致冷红外探测装置,依次包括硅衬底、支撑薄膜和红外吸收结构,支撑薄膜位于硅衬底的表面,支撑薄膜上制作有红外吸收结构,同时制作与红外敏感层直接相连的电源偏置和信号读出薄膜电极,该电极沿着支撑臂表面与硅衬底上的电接触点或电极焊盘相连;在红外吸收结构下方的硅衬底表面腐蚀出空腔,空腔上的支撑薄膜作为红外吸收结构的支撑层。该装置具有低热质量和热隔离空腔高度不限的特点,且对红外辐射入射角度不敏感,可广泛应用于红外生化传感器、红外光谱仪、非致冷红外热像仪等领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 致冷 红外 探测 装置 | ||
【主权项】:
一种非致冷红外探测装置,其特征在于,该装置依次包括硅衬底、支撑薄膜和红外吸收结构,支撑薄膜位于硅衬底的表面,支撑薄膜上制作有红外吸收结构,同时制作与红外敏感层直接相连的电源偏置和信号读出薄膜电极,该电极沿着支撑臂表面与硅衬底上的电接触点或电极焊盘相连;在红外吸收结构下方的硅衬底表面腐蚀出空腔,空腔上的支撑薄膜作为红外吸收结构的支撑层;红外吸收结构包括逆着红外辐射的入射方向依次叠置的底部红外反射层,第一绝缘层,红外敏感层和表面结构层,其中表面结构层是由可调电导率薄膜材料组成的具有圆形或方形形状的岛状阵列结构,这种阵列结构按照二维矩形或六角形周期分布排列;在红外敏感层和表面结构层之间添加第二绝缘层。
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