[实用新型]一种轴对称偏振谐振腔镜有效
| 申请号： | 201120454641.6 | 申请日： | 2011-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN202333432U | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 王又青;赵江;李波;杨扬;贺昌玉 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | H01S3/101 | 分类号： | H01S3/101 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 曹葆青 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种轴对称偏振谐振腔镜，它包括光栅、多层介质膜和基底；光栅的刻线呈圆环状，并分布均匀，且与基底同心，光栅的刻线剖面为矩形，光栅镜刻蚀区的尺寸满足关系：φ2＝φ1-2*L，其中，φ1为基底直径，φ2为光栅刻蚀区圆环的直径，L为基底上未镀膜和未刻蚀光栅的圆环宽度；多层介质膜是由高低折射率材料交替层叠而成；多层介质膜位于光栅和基底之间，光栅层厚度小于多层介质膜总厚度。该腔镜具有对P偏振或S偏振选择和高反射的特点，而且具有圆对称性。可用于激光谐振腔的尾镜，得到高偏振度的轴对称偏振光束。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 轴对称 偏振 谐振腔 | ||
【主权项】：
一种轴对称偏振谐振腔镜，其特征在于，它包括光栅(1)、多层介质膜(2)和基底(3)；光栅(1)的刻线呈圆环状，并分布均匀，且与基底(3)同心，光栅(1)的刻线剖面为矩形，光栅镜刻蚀区的尺寸满足关系：φ2＝φ1‑2*L，其中，φ1为基底直径，φ2为光栅刻蚀区圆环的直径，L为基底(3)上未镀膜和未刻蚀光栅的圆环宽度；多层介质膜(2)由高低折射率材料交替层叠而成；多层介质膜(2)位于光栅(1)和基底(3)之间，光栅层厚度小于多层介质膜总厚度；基底(3)是平面镜或凹面镜。
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