[实用新型]EMI真空镀膜遮挡式治具有效
| 申请号： | 201120281152.5 | 申请日： | 2011-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN202214411U | 公开（公告）日： | 2012-05-09 |
| 发明（设计）人： | 欧胤;周美;唐金明;刘洪彪 | 申请（专利权）人： | 东莞劲胜精密组件股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/00 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人： | 曹玉平 |
| 地址： | 523878 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及治具技术领域，尤其涉及EMI真空镀膜遮挡式治具，其包括有底盖、与底盖对应配合的顶盖，顶盖盖设在底盖上，顶盖上设置有用于对工件进行EMI真空镀膜间隙，所述底盖中开设有长度小于工件的第一层凹槽和长度与工件匹配的第二层凹槽，第一层凹槽和第二层凹槽组合形成阶梯形结构，操作时，首先将一个工件放置在底盖的第二层凹槽中，将另一个工件放置在第一层凹槽中，使得两工件中不需要加工的区域重叠放置，缩小治具占用的空间，然后将顶盖盖设在底盖上，如此便可对两个工件同时进行EMI真空镀膜加工，使得每次进行加工的产量得到提高，有效降低了生产成本，提高效率，有利于市场竞争。 | ||
| 搜索关键词： | emi 真空镀膜 遮挡 式治具 | ||
【主权项】：
EMI真空镀膜遮挡式治具，它包括有底盖(1)、与底盖(1)对应配合的顶盖(2)，顶盖(2)盖设在底盖(1)上，顶盖(2)上设置有对工件进行EMI真空镀膜的间隙(21)，其特征在于：所述底盖(1)中开设有长度小于工件的第一层凹槽(11)、长度与工件匹配的第二层凹槽(12)，第一层凹槽(11)和第二层凹槽(12)组合形成阶梯形结构。
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