[实用新型]曝光机的光源装置有效

专利信息
申请号: 201120247953.X 申请日: 2011-07-14
公开(公告)号: CN202189225U 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 王俊元;陈立扬 申请(专利权)人: 志圣科技(广州)有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;F21V1/12
代理公司: 广州市越秀区海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295 代理人: 黄为
地址: 510850 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种曝光机的光源装置,包含一外壳、一灯管,及一遮光模块,外壳包括一容置空间,及一使容置空间与外部连通的开口;灯管设置于容置空间内并可产生光线,灯管产生的光线能经由开口照射至外壳外;遮光模块设置于开口并包括一第一遮光区、多个位于第一遮光区内用以供光线穿过的第一透光部、一对应于灯管位置的第二遮光区,及多个位于第二遮光区内用以供光线穿过的第二透光部,第一遮光区位在第二遮光区外周围,且第二遮光区的遮光率大于第一遮光区的遮光率,借此,能提升光线照射在工作物件上的均匀度。
搜索关键词: 曝光 光源 装置
【主权项】:
曝光机的光源装置,该光源装置包含一外壳及一灯管,该外壳包括一容置空间,及一使该容置空间与外部连通的开口,该灯管设置于该容置空间内并可产生光线,该灯管产生的光线能经由该开口照射至该外壳外;其特征在于:该光源装置还包含一遮光模块,该遮光模块设置于该开口并包括一第一遮光区、多个位于该第一遮光区内用以供光线穿过的第一透光部、一对应于该灯管位置的第二遮光区,及多个位于该第二遮光区内用以供光线穿过的第二透光部,该第一遮光区位在该第二遮光区外周围,且该第二遮光区的遮光率大于该第一遮光区的遮光率。
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