[实用新型]曝光机的光源装置有效

专利信息
申请号: 201120247953.X 申请日: 2011-07-14
公开(公告)号: CN202189225U 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 王俊元;陈立扬 申请(专利权)人: 志圣科技(广州)有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;F21V1/12
代理公司: 广州市越秀区海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295 代理人: 黄为
地址: 510850 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 曝光 光源 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种光源装置,特别是涉及一种用于曝光作业之曝光机的光源装置。

背景技术

如图1所示,目前曝光机的光源装置通常包含一灯箱11,及一设置于灯箱11下方的反射罩12,灯箱11的一紫外线灯管111所产生的紫外线部份会经由反射罩12反射至工作台面13的电路基板14,部份则会直接照射在电路基板14。

通常,紫外线灯管111所产生的紫外线照射至电路基板14时,位于紫外线灯管111正下方中间处的光线亮度最强,而越靠近外周围则亮度越来越弱,因此,会造成光线无法均匀地照射在电路基板14的每个位置。

发明内容

本实用新型的主要目的,在于提供一种曝光机的光源装置,能提升光线照射在工作物件上的均匀度。

本实用新型的目的及解决背景技术问题是采用以下技术方案来实现的,依据本实用新型提出的一种曝光机的光源装置,包含一外壳及一灯管,外壳包括一容置空间,及一使容置空间与外部连通的开口,灯管设置于容置空间内并可产生光线,灯管产生的光线能经由开口照射至外壳外。

光源装置还包含一遮光模块,遮光模块设置于开口处并包括一第一遮光区、多个位于第一遮光区内用以供光线穿过的第一透光部、一对应于灯管位置的第二遮光区,及多个位于第二遮光区内用以供光线穿过的第二透光部,第一遮光区位在第二遮光区外周围,且第二遮光区的遮光率大于第一遮光区的遮光率。

本实用新型的目的及解决背景技术问题还可以采用以下技术手段进一步实现。

遮光模块包括一形成第一遮光区并封闭开口的第一遮光元件,及一形成第二遮光区并接合于第一遮光元件中间处的第二遮光元件,第二遮光元件外形小于第一遮光元件外形。

第一遮光区与所述第一透光部部份会与第二遮光区及所述第二透光部重迭,第一遮光区与所述第一透光部部份位在第二遮光区外周围。

第一、第二遮光元件分别为一网体,第一、第二遮光元件包含多条经线及多条编织于所述经线上的纬线,第二遮光元件的所述经、纬线编织密度较第一遮光元件的所述经、纬线编织密度密。

各第一、第二透光部分别为一网孔,各第二透光部小于各第一透光部。

第一、第二遮光元件分别为一板件,各第一、第二透光部分别为一穿孔,各第二透光部小于各第一透光部。

遮光模块为一网体,网体包括多条经线及多条编织于所述经线上的纬线,所述经、纬线共同形成第二遮光区的编织密度较所述经、纬线共同形成第一遮光区的编织密度密。

各第一、第二透光部分别为一网孔,各第二透光部小于各第一透光部。

遮光模块为一形成第一、第二遮光区的板件,各第一、第二透光部分别为一穿孔,各第二透光部小于各第一透光部。

本实用新型曝光机的光源装置的优点及有益效果在于:通过对遮光模块的第二遮光区的遮光率大于第一遮光区的遮光率设计,经过开口中间处所照射出的光线受到遮挡的程度最大,而越靠近开口外周缘处所照射出的光线受到遮挡的程度较小,因此,使得通过遮光模块的光线能够均匀地照射在工作物件上。

附图说明

图1是一般曝光机的光源装置的剖视示意图;

图2是本实用新型曝光机的光源装置的第一较佳实施例的立体图;

图3是本实用新型曝光机的光源装置的第一较佳实施例的立体分解图;

图4是本实用新型曝光机的光源装置的第一较佳实施例的仰视示意图,说明第二遮光元件接合在第一遮光元件上;

图5是本实用新型曝光机的光源装置的第一较佳实施例的仰视示意图,说明第一、第二、第三、第四、第五遮光元件接合在一起;

图6是本实用新型曝光机的光源装置的第一较佳实施例的剖视示意图;

图7是本实用新型曝光机的光源装置的第二较佳实施例的立体分解图;

图8是本实用新型曝光机的光源装置的第二较佳实施例的仰视示意图;

图9是本实用新型曝光机的光源装置的第三较佳实施例的立体图;

图10是本实用新型曝光机的光源装置的第三较佳实施例的仰视示意图;

图11是本实用新型曝光机的光源装置的第四较佳实施例的立体图;

图12是本实用新型曝光机的光源装置的第四较佳实施例的仰视示意图。

具体实施方式

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