[实用新型]一种真空蒸镀装置有效
| 申请号： | 201120238890.1 | 申请日： | 2011-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN202139291U | 公开（公告）日： | 2012-02-08 |
| 发明（设计）人： | 沐俊应;刘光海 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 黄灿;赵爱军 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种真空蒸镀装置，包括：蒸发源；用于移动及承载基板的基板驱动机构，所述基板的表面分成若干个蒸镀子区域；用于移动及承载掩模板的掩模板驱动机构，所述掩模板位于所述基板下方，所述掩模板的图形区尺寸与所述蒸镀子区域尺寸相同；蒸镀挡板，位于所述掩模板下方，能够形成与所述掩模板结构相匹配的蒸镀气体透过区；用于移动及承载所述蒸镀挡板的挡板驱动机构。本实用新型可提高蒸镀薄膜厚度的均匀性、降低掩模板尺寸，从而实现对大尺寸基板的真空蒸镀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 装置 | ||
【主权项】：
一种真空蒸镀装置，其特征在于，包括：蒸发源；用于移动及承载基板的基板驱动机构，所述基板的表面分成若干个蒸镀子区域；用于移动及承载掩模板的掩模板驱动机构，所述掩模板位于所述基板下方，所述掩模板的图形区尺寸与所述蒸镀子区域尺寸相同；蒸镀挡板，位于所述掩模板下方，能够形成与所述掩模板结构相匹配的蒸镀气体透过区；用于移动及承载所述蒸镀挡板的挡板驱动机构。
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