[实用新型]宽栅格双极静电感应晶体管的光刻版无效
| 申请号： | 201120211823.0 | 申请日： | 2011-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN202102241U | 公开（公告）日： | 2012-01-04 |
| 发明（设计）人： | 李彤 | 申请（专利权）人： | 李彤 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 扬州市锦江专利事务所 32106 | 代理人： | 江平 |
| 地址： | 225002 江苏省扬*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 宽栅格双极静电感应晶体管的光刻版，属于微电子技术领域，特别是一种功率半导体器件的生产技术领域。包括设有光刻栅区的版体，其特征在于在所述光刻栅区内的栅格条宽度为7～30μm。由于本实用新型将栅格条设计得较宽，因此，生产工艺较为简单，无需大规模集成电路生产线，在普通功率三极管生产线就可生产，大大降低了进入门槛，为产品的规模化生产提供了较好的基础。 | ||
| 搜索关键词： | 栅格 静电感应 晶体管 光刻 | ||
【主权项】：
宽栅格双极静电感应晶体管的光刻版，包括设有光刻栅区的版体，其特征在于在所述光刻栅区内的栅格条宽度为7～30um。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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