[实用新型]用于防止晶片掉片的真空控制系统有效

专利信息
申请号: 201120115171.0 申请日: 2011-04-18
公开(公告)号: CN202025725U 公开(公告)日: 2011-11-02
发明(设计)人: 郑昌荣 申请(专利权)人: 海太半导体(无锡)有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L21/683
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所 32104 代理人: 曹祖良
地址: 214028 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种用于防止晶片掉片的真空控制系统。其包括粘合工作台、放气阀、真空发生阀、固体继电器、直流电源和真空信号发生器,粘合工作台通过导管分别连接放气阀的充气口和真空发生阀的吸气口,放气阀和真空发生阀分别与固体继电器电气连接,通过固体继电器控制;固定继电器分别通过导线连接电源和真空信号发生器。本实用新型可以稳定吸取晶片时的真空值,减少了设备运行过程中晶片掉片的现象;可以大大降低操作人员的工作强度,提高了生产效率;使用寿命大大增长,减少了备件购买费用,节约了生产成本。
搜索关键词: 用于 防止 晶片 真空 控制系统
【主权项】:
用于防止晶片掉片的真空控制系统,其特征在于:包括粘合工作台(1)、放气阀(5)、真空发生阀(6)、固体继电器(7)、直流电源(8)和真空信号发生器 (9),粘合工作台(1)通过导管(2)分别连接放气阀(5)的充气口和真空发生阀(6)的吸气口,放气阀(5)和真空发生阀(6)分别与固体继电器(7)电气连接,通过固体继电器(7)控制;固定继电器(7)分别通过导线连接电源(8)和真空信号发生器(9)。
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