[实用新型]一种适用于多晶硅生产的HCl吸收塔有效
| 申请号： | 201120077129.4 | 申请日： | 2011-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN202063724U | 公开（公告）日： | 2011-12-07 |
| 发明（设计）人： | 曾维华 | 申请（专利权）人： | 四川瑞能硅材料有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/03 | 分类号： | C01B33/03;C01B33/021;B01D53/18 |
| 代理公司： | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人： | 徐宏;吴彦峰 |
| 地址： | 620041 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种适用于多晶硅生产的HCl吸收塔，包括塔体（1）、设置在塔体（1）顶部的气体出口（2）、设置在塔体（1）上部的洗涤液进口（3）和设置在塔体（1）中部的气体进口（4），所述塔体（1）中设置有填料段（5），所述塔体（1）的中部还设置有洗涤液出口（6），所述塔体（1）的下部设置有排净口（7），所述塔体（1）内设置有挡渣罩（8），该挡渣罩（8）与排净口（7）连通。本实用新型构思巧妙、设计合理，有效避免了设备的堵塞，并且保证了多晶硅产品的品质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 多晶 生产 hcl 吸收塔 | ||
【主权项】：
一种适用于多晶硅生产的HCL吸收塔，包括塔体（1）、设置在塔体（1）顶部的气体出口（2）、设置在塔体（1）上部的洗涤液进口（3）和设置在塔体（1）中部的气体进口（4），所述塔体（1）中设置有填料段（5），其特征在于：所述塔体（1）的中部还设置有洗涤液出口（6），所述塔体（1）的下部设置有排净口（7），所述塔体（1）内设置有挡渣罩（8），该挡渣罩（8）与排净口（7）连通。
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