[发明专利]用于气相沉积系统的入口和出口辊子密封构造有效

专利信息
申请号: 201110460425.7 申请日: 2011-12-23
公开(公告)号: CN102584021A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: C·拉思维格 申请(专利权)人: 初星太阳能公司
主分类号: C03C17/22 分类号: C03C17/22;C23C16/54;C23C14/56;C23C16/448
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 严志军;傅永霄
地址: 美国科*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 用于气相沉积系统的入口和出口辊子密封构造,具体而言,一种用于将升华的源材料气相沉积为离散的光伏(PV)模块衬底上的薄膜的装置,衬底以连续不停的方式传送经过该装置。该装置包括气相沉积头,其构造成用于接纳并升华源材料,且用于将升华的源材料分配到传送经过沉积区的衬底的上表面上。辊子密封构造设于用于传送经过该装置的衬底的入口槽和出口槽中的每一者处。该辊子密封构造还包括柱体,其可旋转地支撑在衬底的传送平面上方的限定间隙高度处,使得柱体不在成品活性半导体材料的窗口内与衬底成连续滚动接触。柱体相对于衬底的传送平面在竖直方向上可浮动,使得当衬底在柱体下方被传送时柱体滚上并越过衬底中超过该间隙高度的表面变化。
搜索关键词: 用于 沉积 系统 入口 出口 辊子 密封 构造
【主权项】:
一种用于将升华的源材料气相沉积为离散的光伏(PV)模块衬底(14)上的薄膜的装置(60),所述离散的光伏(PV)模块衬底以连续不停的方式传送经过所述装置,所述装置包括:气相沉积头(62),其构造成用于接纳并升华源材料,并用于将升华的源材料分配到传送经过所述装置的沉积区(112)的衬底的上表面上;辊子密封构造(200),其具有用于传送经过所述装置的衬底的入口槽(120)和出口槽(122)中的至少一者;所述辊子密封构造还包括柱体(202),所述柱体可旋转地支撑在所述衬底的传送平面(208)上方的限定间隙高度(210)处,使得所述柱体在所述衬底的限定的活性半导体区域内不与所述衬底成连续滚动接触;所述柱体相对于所述衬底的传送平面在竖直方向上能够浮动,使得当所述衬底在所述柱体下方被传送时所述柱体滚上并越过超过所述间隙高度的所述衬底中的表面变化。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于初星太阳能公司,未经初星太阳能公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110460425.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top