[发明专利]浸没式光刻系统的投影系统有效
| 申请号： | 201110459541.7 | 申请日： | 2011-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN103186056A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 伍强;郝静安 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种浸没式光刻系统的投影系统，包括：投影透镜；液体池，位于投影透镜的曝光场中，作为投影透镜的曝光媒介；液体供给装置，位于投影透镜的外围，用于提供液体池；至少两个气体喷淋装置，依次分布于液体供给装置的外围；抽吸装置，位于最外侧气体喷淋装置的外围。本发明有效防止液体及气体从投影系统边缘溢出，避免了气雾对光刻系统边缘成像质量的影响，保证了光刻胶层上图形的完整性。 | ||
| 搜索关键词： | 浸没 光刻 系统 投影 | ||
【主权项】：
一种浸没式光刻系统的投影系统，包括：投影透镜；液体池，位于投影透镜的曝光场中，作为投影透镜的曝光媒介；液体供给装置，位于投影透镜的外围；其特征在于，还包括：至少两个气体喷淋装置，依次分布于液体供给装置的外围；抽吸装置，位于最外侧气体喷淋装置的外围。
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