[发明专利]一种光刻条件控制方法无效
| 申请号： | 201110455195.5 | 申请日： | 2011-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN103186053A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 黄玮 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮;李辰 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种光刻条件控制方法，通过对曝光参数的自动实时监控来尽可能保证在线条宽和套刻在规范之内，同时针对条宽和套刻在规范内的前提下，对曝光参数进行SPC统计控制，从而能实现每次的光刻工艺都在正常的机台参数下进行操作，不仅可以提高产品本身的质量，更可以避免因机台长时间工作而引起的工艺性系统偏差，减少大规模产品报废的发生。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 条件 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻条件控制方法，其特征在于，该控制方法包括步骤：提供N个批次产品，对该N个批次产品的至少一测量参数进行测量；根据上述测量所得的测量参数计算得出至少一曝光参数最佳值，将该曝光参数最佳值按产品批次进行一统计处理；判断该曝光参数最佳值的统计结果，并根据该统计结果对当前光刻工艺实施一统计工艺控制。
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