[发明专利]一种光刻条件控制方法无效
| 申请号： | 201110455195.5 | 申请日： | 2011-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN103186053A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 黄玮 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮;李辰 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 条件 控制 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光刻条件控制方法，其特征在于，该控制方法包括步骤：
提供N个批次产品，对该N个批次产品的至少一测量参数进行测量；
根据上述测量所得的测量参数计算得出至少一曝光参数最佳值，将该曝光参数最佳值按产品批次进行一统计处理；
判断该曝光参数最佳值的统计结果，并根据该统计结果对当前光刻工艺实施一统计工艺控制。
2.如权利要求1所述的控制方法，其特征在于：所述测量参数包括条宽或套刻。
3.如权利要求2所述的控制方法，其特征在于：所述条宽对应的曝光参数为曝光能量。
4.如权利要求2所述的控制方法，其特征在于：所述套刻对应的曝光参数包括：X/Y方向偏移量、X/Y膨胀系统、旋转度或正交性。
5.如权利要求1所述的控制方法，其特征在于：所述统计处理为将该曝光参数最佳值按批次绘制成统计曲线。
6.如权利要求5所述的控制方法，其特征在于：所述统计曲线的变化趋势决定所述统计结果。
7.如权利要求6所述的控制方法，其特征在于：所述统计曲线的变化趋势为该曝光参数最佳值的各批次分布按一基准值做随机波动，对N+1批次产品，以上述曝光参数最佳值做加权计算得出的曝光参数优化值为实际曝光条件，进行光刻工艺。
8.如权利要求6所述的控制方法，其特征在于：所述统计曲线的变化趋势为该曝光参数最佳值的各批次分布按一方向做趋势变化，则停止当前光刻工艺。
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