[发明专利]磁控溅射镀膜生产系统及其生产工艺

摘要

一种磁控溅射镀膜生产系统和工艺，该系统包括进出片室、过渡室、第一旋转室、两个工作站，进出片室、过渡室、第一旋转室依序衔接，两个工作站分别衔接至第一旋转室，一个工作站包括第一镀膜室和第二旋转室，第一镀膜室的两端分别连接至第一、第二旋转室，另一工作站包括镀膜单元和第三旋转室，镀膜单元的两端分别连接至第一、第三旋转室，镀膜单元包括两个串联的第二镀膜室。两个工作站分别实现双层或四层镀膜，通过旋转室调度，长短结合，适于多层减反射玻璃，生产效率和产能高，满足如功能玻璃的多层镀膜的需求。实现每个单层无干扰的独立溅射且其厚度可测可控，通过两工作站的合理调度，可进行任意层数的组合，能满足产品不断升级的要求。

主权项

一种磁控溅射镀膜生产系统，其特征在于，包括进出片室、第一过渡室、第一旋转室、第一镀膜工作站、第二镀膜工作站，所述进出片室、第一过渡室、第一旋转室依序衔接，所述第一镀膜工作站、第二镀膜工作站分别衔接至所述第一旋转室，所述第一镀膜工作站包括第一镀膜工作室和第二旋转室，所述第一镀膜工作室的两端分别连接至所述第一旋转室和第二旋转室，所述第二镀膜工作站包括镀膜单元和第三旋转室，所述镀膜单元的两端分别连接至所述第一旋转室和第三旋转室，所述镀膜单元包括两个串联联接的第二镀膜工作室。