[发明专利]一种改型磁控溅射靶材部件及其方法无效
| 申请号： | 201110423034.8 | 申请日： | 2011-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN102418079A | 公开（公告）日： | 2012-04-18 |
| 发明（设计）人： | 翟宇宁;李毅;宋光耀;刘志斌;龙鹏 | 申请（专利权）人： | 深圳市创益科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳市毅颖专利商标事务所 44233 | 代理人： | 张艺影 |
| 地址： | 518029 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种改型的平面靶材结构及其靶材利用率最大化，应用于薄膜太阳能电池低温沉积导电膜层，属于太阳能磁控溅射设备技术领域。其特征是将靶材划分多个溅射区域，在溅射区域的两头端部，其溅射轨道沟槽最深，中间直道靶材溅射轨道沟槽部分的靶材是拼接靶材组合件。本发明创造的实施有效提高了靶材的利用率，结构简单，安装更换方便。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改型 磁控溅射 部件 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种改型磁控溅射靶材部件，由两头端部靶材和中间直道靶材构成，包括金属板衬垫和背板、靶座，其特征在于将靶材划分多个溅射区域，还包括靶材两头端头区域，中间直道区域由拼接靶材组合件构成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市创益科技发展有限公司，未经深圳市创益科技发展有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110423034.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种数据传输中格式转变的方法和系统
- 下一篇：一种多通道A/D抗串扰电路
- 同类专利
- 专利分类
