[发明专利]一种新型有机光刻胶剥离液及其制备工艺无效
| 申请号： | 201110420802.4 | 申请日： | 2011-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN103163744A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 戈士勇;沈翠芬;盛建伟;袁晓蕾 | 申请（专利权）人： | 江阴润玛电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214423 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种新型有机光刻胶剥离液及其制备工艺。该新型有机光刻胶剥离液包括有机溶剂、有机胺和表面活性剂。该剥离液制备工艺包括常温常压下保持配料罐搅拌器转速，向配料罐中依次加入有机溶剂、有机胺和表面活性剂，充分搅拌后通入过滤器过滤制成成品。本发明中的剥离液颗粒度小、纯度高，剥离光刻胶后的基板表面无杂质残留；能与光刻胶表面尤其是图形深孔充分并均匀接触；使基板表面的剥离速率可控，适用于不同金属层表面光刻胶的剥离；剥离光刻胶的操作对铝层无损伤，保证了产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 有机 光刻 剥离 及其 制备 工艺 | ||
【主权项】：
一种新型有机光刻胶剥离液，其特征在于，所述有机光刻胶剥离液包含有机溶剂、单乙醇胺和表面活性剂，所述有机光刻胶剥离液的各组分重量百分比分别为：有机溶剂48％～70％、有机胺28％～50％、表面活性剂0.001％～3％。
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