[发明专利]一种新型有机光刻胶剥离液及其制备工艺无效
申请号: | 201110420802.4 | 申请日: | 2011-12-16 |
公开(公告)号: | CN103163744A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 戈士勇;沈翠芬;盛建伟;袁晓蕾 | 申请(专利权)人: | 江阴润玛电子材料股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
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地址: | 214423 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 有机 光刻 剥离 及其 制备 工艺 | ||
1.一种新型有机光刻胶剥离液,其特征在于,所述有机光刻胶剥离液包含有机溶剂、单乙醇胺和表面活性剂,所述有机光刻胶剥离液的各组分重量百分比分别为:有机溶剂48%~70%、有机胺28%~50%、表面活性剂0.001%~3%。
2.如权利要求1所述的光刻胶剥离液,其特征在于,所述有机溶剂为水溶性有机溶剂,所述表面活性剂为阴离子表面活性剂,所述有机胺为单乙醇胺。
3.如权利要求2所述的光刻胶剥离液,其特征在于,所述含水溶性有机溶剂为二甲基亚砜或二甲基甲酰胺。
4.如权利要求3所述的光刻胶剥离液,其特征在于,所述阴离子表面活性剂为月桂酸硫酸钠、二辛基琥珀酸磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠和十六烷基硫酸钠中的至少一种。
5.如权利要求4所述的光刻胶剥离液,其特征在于,所述有机光刻胶剥离液中未溶解杂质颗粒度大于0.3μm的颗粒数不超过100个,杂质阴离子不超过1ppb,杂质阳离子不超过50ppb。
6.一种新型有机光刻胶剥离液的制备工艺,其特征在于,所述制备工艺包括如下加工步骤:
第一步:将有机溶剂、有机胺和表面活性剂按权利要求1所述配比称重配置;
第二步:将有机溶剂加入配料罐中,搅拌下加入有机胺,搅拌均匀;
第三步:往混匀的有机溶剂和有机胺的混合物中加入表面活性剂,充分搅拌;
第四步:将混合物通入过滤器中过滤,得到所述有机光刻胶剥离液。
7.如权利要求6所述的光刻胶剥离液的制备工艺,其特征在于,所述过滤器的微滤膜孔径为0.05~0.15μm。
8.如权利要求7所述的光刻胶剥离液的制备工艺,其特征在于,所述过滤在空气中颗粒度大于0.5μm的颗粒不超过100个的百级净化环境中进行。
9.如权利要求8所述的光刻胶剥离液的制备工艺,其特征在于,所述搅拌为机械搅拌或磁力搅拌,搅拌的速度为60~85转/分钟。
10.如权利要求9所述的光刻胶剥离液的制备工艺,其特征在于,所述搅拌与过滤是在常温、常压的状态下进行。
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