[发明专利]一种新型有机光刻胶剥离液及其制备工艺无效

专利信息
申请号: 201110420802.4 申请日: 2011-12-16
公开(公告)号: CN103163744A 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 戈士勇;沈翠芬;盛建伟;袁晓蕾 申请(专利权)人: 江阴润玛电子材料股份有限公司
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214423 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 有机 光刻 剥离 及其 制备 工艺
【权利要求书】:

1.一种新型有机光刻胶剥离液,其特征在于,所述有机光刻胶剥离液包含有机溶剂、单乙醇胺和表面活性剂,所述有机光刻胶剥离液的各组分重量百分比分别为:有机溶剂48%~70%、有机胺28%~50%、表面活性剂0.001%~3%。

2.如权利要求1所述的光刻胶剥离液,其特征在于,所述有机溶剂为水溶性有机溶剂,所述表面活性剂为阴离子表面活性剂,所述有机胺为单乙醇胺。

3.如权利要求2所述的光刻胶剥离液,其特征在于,所述含水溶性有机溶剂为二甲基亚砜或二甲基甲酰胺。

4.如权利要求3所述的光刻胶剥离液,其特征在于,所述阴离子表面活性剂为月桂酸硫酸钠、二辛基琥珀酸磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠和十六烷基硫酸钠中的至少一种。

5.如权利要求4所述的光刻胶剥离液,其特征在于,所述有机光刻胶剥离液中未溶解杂质颗粒度大于0.3μm的颗粒数不超过100个,杂质阴离子不超过1ppb,杂质阳离子不超过50ppb。

6.一种新型有机光刻胶剥离液的制备工艺,其特征在于,所述制备工艺包括如下加工步骤:

第一步:将有机溶剂、有机胺和表面活性剂按权利要求1所述配比称重配置;

第二步:将有机溶剂加入配料罐中,搅拌下加入有机胺,搅拌均匀;

第三步:往混匀的有机溶剂和有机胺的混合物中加入表面活性剂,充分搅拌;

第四步:将混合物通入过滤器中过滤,得到所述有机光刻胶剥离液。

7.如权利要求6所述的光刻胶剥离液的制备工艺,其特征在于,所述过滤器的微滤膜孔径为0.05~0.15μm。

8.如权利要求7所述的光刻胶剥离液的制备工艺,其特征在于,所述过滤在空气中颗粒度大于0.5μm的颗粒不超过100个的百级净化环境中进行。

9.如权利要求8所述的光刻胶剥离液的制备工艺,其特征在于,所述搅拌为机械搅拌或磁力搅拌,搅拌的速度为60~85转/分钟。

10.如权利要求9所述的光刻胶剥离液的制备工艺,其特征在于,所述搅拌与过滤是在常温、常压的状态下进行。

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