[发明专利]一种基于介质阻挡放电的固体样品剥蚀方法及装置有效

专利信息
申请号: 201110415342.6 申请日: 2011-12-13
公开(公告)号: CN102519917A 公开(公告)日: 2012-06-27
发明(设计)人: 邢志;杨萌;张四纯;张新荣 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G01N21/62 分类号: G01N21/62;G01N21/31;G01N21/64;G01N1/28
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 关畅
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基于介质阻挡放电的固体样品剥蚀方法及装置。该方法包括如下步骤:工作气体在交流电场的作用下进行介质阻挡放电产生等离子体射流;所述等离子体射流聚于待测固体样品上即可对所述待测固体样品中的元素进行剥蚀。所述装置包括样品室和毛细管,所述样品室包括样品室腔体和与该样品室腔体相配合的样品室盖体;所述毛细管固设于所述样品室盖体上且一端延伸至所述样品室腔体内;所述毛细管设于所述样品室腔体外的部分上贴附有两个电极,所述两个电极之间设有间距,所述两个电极均与交流电源相连接;所述样品室腔体的侧壁上的相对位置处分别设有辅助气体进口和出气口。本发明为等离子体发射光谱、等离子体质谱、原子吸收或者原子荧光光谱仪的小型化、便携式提供了有力的研究基础。
搜索关键词: 一种 基于 介质 阻挡 放电 固体 样品 剥蚀 方法 装置
【主权项】:
一种基于介质阻挡放电的固体样品剥蚀方法,包括如下步骤:工作气体在交流电场的作用下进行介质阻挡放电产生等离子体射流;所述等离子体射流聚于待测固体样品上即可对所述待测固体样品中的元素进行剥蚀。
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