[发明专利]用于准确记录的系统和方法有效
| 申请号： | 201110414348.1 | 申请日： | 2011-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN102568499B | 公开（公告）日： | 2016-11-02 |
| 发明（设计）人： | 任志远;史晓蕾;V·P·奥斯特罗弗霍夫 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | G11B7/0065 | 分类号： | G11B7/0065 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 柯广华;卢江 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明名称为“用于准确记录的系统和方法”。公开用于计算全息盘中记录深度的方法，包括：将第一外部电压施加到与物镜耦合的一个或多个致动器，以便将具有第一波长的辐射的跟踪光束聚焦在盘的参考层上，其中参考层包括部分二向色涂层或部分金属化涂层中至少一个；将第二外部电压施加到与物镜耦合的一个或多个致动器，以便将辐射的记录光束聚焦在盘的参考层上，其中记录光束包括与跟踪光束的第一波长不同的第二波长；计算第一外部电压与第二外部电压之间的差；基于该差使用电压‑距离校准曲线计算透镜位移距离，其中透镜位移距离指为将辐射的跟踪光束和记录光束分别聚焦在参考层上而对物镜距离的位移。方法还基于透镜位移距离计算记录深度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 准确 记录 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于计算全息盘中的记录深度的方法，所述方法包括：将第一外部电压施加到与物镜耦合的一个或多个致动器，以便将具有第一波长的辐射的跟踪光束聚焦在所述盘的参考层上，其中所述参考层包括部分二向色涂层或部分金属化涂层中的至少一个；将第二外部电压施加到与所述物镜耦合的所述一个或多个致动器，以便将辐射的记录光束聚焦在所述盘的所述参考层上，其中所述记录光束具有与所述跟踪光束的所述第一波长不同的第二波长；计算所述第一外部电压与所述第二外部电压之间的差；基于所述差，使用电压‑距离校准曲线来计算透镜位移距离，其中所述透镜位移距离包括为了将辐射的所述跟踪光束和辐射的所述记录光束分别聚焦在所述参考层上而对所述物镜的距离的位移；以及基于所述透镜位移距离来计算所述记录深度。
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