[发明专利]氧化硅玻璃坩埚的制造方法及制造装置有效
| 申请号： | 201110396959.8 | 申请日： | 2011-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN102531345A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 须藤俊明;岸弘史;长谷部幸太 | 申请（专利权）人： | 日本超精石英株式会社 |
| 主分类号： | C03B20/00 | 分类号： | C03B20/00 |
| 代理公司： | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人： | 杨波 |
| 地址： | 秋田县秋田*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种氧化硅玻璃坩埚的制造方法包含：向模具（10）内供给氧化硅粉末来形成氧化硅粉层（11）的氧化硅粉末供给工序；用多根碳电极（13）进行电弧放电来熔化氧化硅粉层（11）的电弧熔化工序；将各碳电极前端与供给到模具（10）内的氧化硅粉层（11）的靶面之间的距离分别设定为等距离，以吹入靶面的电弧火焰来进行表面除去的火焰抛光工序。本发明还提供一种氧化硅玻璃坩埚的制造装置。本发明提供一种坩埚内表面的气泡和杂质少，且能够获得单晶硅的高结晶化率的氧化硅玻璃坩埚的制造方法及制造装置。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 玻璃 坩埚 制造 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种氧化硅玻璃坩埚的制造方法，其特征在于：所述方法包括：向旋转的模具内供给氧化硅粉末来形成氧化硅粉层的氧化硅粉末供给工序；利用多根碳电极进行电弧放电来熔化上述氧化硅粉层的电弧熔化工序；将各碳电极前端与上述氧化硅粉层的靶面之间的距离分别设定为等距离，以吹入靶面的电弧火焰进行表面除去的火焰抛光工序。
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