[发明专利]过梁式单/双导轨双驱步进扫描双工件台交换装置与方法

摘要

过梁式单/双导轨双驱步进扫描双工件台交换装置与方法属于半导体制造装备；该系统含有设置在同一基台上的运行于曝光工位的硅片台和运行于预处理工位的硅片台，基台边缘设置有4个Y方向直线运动单元和2个X方向直线运动单元，基台中间设置有2个X方向高于硅片台工作面的过梁式直线运动单元；Y方向直线运动单元通过X方向直线运动单元可以实现X方向运动，并与自身的Y方向运动滑块共同实现硅片台的X方向或Y方向的运动；本发明能够增强导轨的抗转矩干扰能力，减小或克服因转矩干扰引起的运动偏差和形变偏差，提高硅片台运动精度；换台过程仅有三个节拍，缩短双台交换需要的时间，明显提高光刻机的生产效率。

主权项

一种过梁式单/双导轨双驱步进扫描双工件台交换方法，其特征在于：该方法的三节拍步骤是：在双工件台交换以前，处于预处理工位的第一硅片台由Y方向第一直线运动单元卡持，而处于曝光工位的第二硅片台由Y方向第二、三直线运动单元共同卡持；在曝光运动结束以后，第一节拍：Y方向第二直线运动单元与第二硅片台分离，并同时分别向基台边缘运动，其中Y方向第三直线运动单元最终与Y方向第四直线运动单元对齐组成组合导轨，同时处于预处理工位的第一硅片台在Y方向第一直线运动导轨的带动下，开始向基台边缘运动，与Y方向第二直线运动单元对齐，组成一组合导轨，在整个节拍过程中，硅片台运动无停顿；第二节拍：第一、二硅片台分别沿两条Y方向组合导轨运动，同时，与硅片台无接触的Y方向第二直线运动单元的直线电机动子滑块向基台边缘运动，为硅片台留出足够的运动空间，与硅片台无接触的Y方向第三直线运动单元的直线电机动子滑块向基台中间位置运动，为下一步抓卡硅片台做准备，第一、二硅片运动中穿越第一、二过梁式穿越Y方向直线运动单元，并跨越组合导轨对接部位；第三节拍：第一、二硅片台分别在Y方向第二、四直线运动单元的带动下，沿X方向运动，同时，Y方向第三直线运动单元做与第一硅片台相对方向的运动，与硅片台无接触的Y方向第三直线运动单元的直线电机动子滑块同时向硅片台运动，直至靠近并卡持，整个过程中，硅片台运动无停顿；至此，交换过程完成，曝光和预处理工序开始；在曝光和预处理工序结束后，硅片台作与上述运动过程相逆的运动，从而实现连续的换台过程。