[发明专利]一种二维电子气结构的霍尔元件及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201110375099.X 申请日: 2011-11-23
公开(公告)号: CN102403450A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 李博;刘洪刚;刘新宇 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L43/10 分类号: H01L43/10;H01L43/04;H01L43/06;H01L43/14
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周国城
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及霍尔元件技术领域,公开了一种蓝宝石衬底GaN/AlN/AlGaN二维电子气结构的霍尔元件及其制备方法,以及该二维电子气结构的霍尔元件的外延材料结构。本发明公开的霍尔元件能够工作在300摄氏度以上和-50摄氏度以下等极端温度条件。同时从小型化和可批量生产的角度,提出了一种面积利用率最优化设计。最后提供了霍尔元件制备工艺流程。该霍尔元件经过灵敏度测试,其灵敏度高达7.28mV/mA*KGs。本发明提供的霍尔元件结构和制备方法,也可以应用在其他衬底材料的霍尔元件制备。
搜索关键词: 一种 二维 电子 结构 霍尔 元件 及其 制备 方法
【主权项】:
一种二维电子气结构的霍尔元件,其特征在于,该霍尔元件采用十字叉指结构,电极位于该十字叉指结构的四个角上。
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