[发明专利]硅片清洗装置无效
| 申请号： | 201110370462.9 | 申请日： | 2011-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN103121018A | 公开（公告）日： | 2013-05-29 |
| 发明（设计）人： | 李川川 | 申请（专利权）人： | 常州市万阳光伏有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B13/00 |
| 代理公司： | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人： | 张利强 |
| 地址： | 213115 江苏省常州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅片清洗装置，包括：清洗槽和漂洗槽，所述清洗槽上设有进槽口，所述漂洗槽上设有出槽口，所述清洗槽和漂洗槽内均设有用于输送硅片的输送辊轮组，所述输送辊轮组的上方和下方分别设有用于喷射清洗硅片的多个上喷头和下喷头，所述清洗槽与漂洗槽之间设有过渡槽口和隔板。通过上述方式，本发明将硅片清洗方式由浸泡式改为喷淋式，使硅片在清洗过程中的受力情况简单化，减少硅片在清洗过程中的碎片概率，结构简单，易实施。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种硅片清洗装置，其特征在于，包括：清洗槽和漂洗槽，所述清洗槽上设有进槽口，所述漂洗槽上设有出槽口，所述清洗槽和漂洗槽内均设有用于输送硅片的输送辊轮组，所述输送辊轮组的上方和下方分别设有用于喷射清洗硅片的多个上喷头和下喷头，所述清洗槽与漂洗槽之间设有过渡槽口和隔板。
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