[发明专利]磁记录介质用玻璃基板的制造方法无效
| 申请号： | 201110328597.9 | 申请日： | 2011-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN102463502A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 羽根田和幸 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;杨光军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，该制造方法可在抛光工序中不使用氧化铈或者降低其使用量，并且在得到充分的耐冲击强度的同时能够以高的生产率制造这样的磁记录介质用玻璃基板。该制造方法顺序地包括：对于具有中心孔的圆盘状的玻璃基板的内外周端面至少实施磨削加工的工序、实施蚀刻加工的工序和实施抛光加工的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 玻璃 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，顺序地包括：对于具有中心孔的圆盘状的玻璃基板的内外周端面至少实施磨削加工的工序、实施蚀刻加工的工序和实施抛光加工的工序。
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