[发明专利]磁记录介质用玻璃基板的制造方法无效
| 申请号： | 201110328597.9 | 申请日： | 2011-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN102463502A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 羽根田和幸 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;杨光军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 记录 介质 玻璃 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，顺序地包括：对于具有中心孔的圆盘状的玻璃基板的内外周端面至少实施磨削加工的工序、实施蚀刻加工的工序和实施抛光加工的工序。
2.根据权利要求1所述的磁记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述抛光加工中，作为研磨剂使用氧化硅。
3.根据权利要求1或2所述的磁记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述氧化硅的平均粒径为0.4μm～1μm。
4.根据权利要求1～3的任一项所述的磁记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述蚀刻处理中使用氢氟酸。
5.根据权利要求1～4的任一项所述的磁记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述抛光加工不使用氧化铈作为研磨剂而进行。
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