[发明专利]用于电容触摸屏中玻璃基板的加工工艺

摘要

本发明公开一种用于电容触摸屏中玻璃基板的加工工艺，所述电容式触摸屏从上往下依次设置有第一玻璃基板、上电极层、下电极层和第二玻璃基板；所述第一、第二玻璃基板经过以下步骤处理：步骤一、将所述玻璃基板放置于酸性溶液中进行预处理；步骤二、将经步骤一的所述玻璃基板浸入第一离子溶液中，所述第一离子溶液由去离子水与硫酸钠和氧化钾组成的混合物组成；步骤三、将经步骤二的所述玻璃基板浸入第二离子溶液中，所述第二离子溶液由去离子水与硝酸钾、碳酸钾和硼酸钾组成的混合物组成；步骤四、将经步骤三的所述玻璃基板浸泡于50～60℃的去离子水中。本发明加工工艺缩短了处理时间，并进一步提高了电容触摸屏的玻璃基板压应力层的厚度、抗折强度以及表面硬度。

主权项

一种用于电容触摸屏中玻璃基板的加工工艺，所述电容式触摸屏从上往下依次设置有第一玻璃基板、上电极层、下电极层和第二玻璃基板；其特征在于：所述第一、第二玻璃基板经过以下步骤处理：步骤一、将所述玻璃基板放置于酸性溶液中进行预处理，预处理时间为1～10min；所述玻璃基板原料配方主要由下列质量百分含量的组分组成：二氧化硅(SiO2)     71.21％；氧化钾(K2O)        1.22％；氧化纳(Na2O)       12.77％；氧化钙(CaO)        6.48％；步骤二、将经步骤一的所述玻璃基板浸入580～620℃的第一离子溶液中，处理时间为25分钟，所述第一离子溶液由去离子水与硫酸钠和氧化钾组成的混合物组成，此硫酸钠和氧化钾在混合物中质量百分含量为：硫酸钠，53.81％；氧化钾，46.19％；步骤三、将经步骤二的所述玻璃基板浸入第二离子溶液中，此第二离子溶液以每分钟3～15℃/min升温速率从室温升至390～420℃，并在390～420℃的条件下保持3～5小时后自然降温；所述第二离子溶液通有气体从而在此第二离子溶液中形成气泡，所述第二离子溶液由去离子水与硝酸钾、碳酸钾和硼酸钾组成的混合物组成，此混合物各组分的质量百分含量为：硝酸钾(SiO2)        85％～95％；碳酸钾(B2O3)        4％～14％；硼酸钾(K2B4O7)      0.5％～1.5％；步骤四、将经步骤三的所述玻璃基板浸泡于50～60℃的去离子水中，此去离子水中通有空气。