[发明专利]光刻设备、器件制造方法和施加图案到衬底上的方法有效

专利信息
申请号: 201110263560.2 申请日: 2011-09-07
公开(公告)号: CN102402129A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: L·夸迪伊;N·J·吉利森 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00;G03F7/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴敬莲
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明公开了一种光刻设备、一种器件制造方法以及一种用于将图案应用至衬底的方法,其中光刻设备被布置成将图案从图案形成装置转移到衬底上,其中测量子系统包括朝向衬底引导的靠近图案形成子系统的图案化区域的一个或(优选地)更多的对准和水平传感器。对准传感器是可操作的以在定位子系统的控制之下在衬底和图案形成子系统的相对运动期间经过传感器来识别和测量衬底上的对准标记。处理器组合多个所述标记的相对区域的测量结果以提供对于定位子系统来说具有足够精确度的测量结果,来相对于对准标记在图案化区域处定位至少第一衬底部分。预备步骤获得了相对于图案形成装置上的已知图案的位置。在连续的衬底部分的曝光期间实时地进行测量和更新。
搜索关键词: 光刻 设备 器件 制造 方法 施加 图案 衬底
【主权项】:
一种光刻设备,所述光刻设备布置成将图案从图案形成装置转移到衬底上,所述光刻设备包括:图案形成子系统,用于接收所述图案形成装置和施加所述图案至所述衬底的保持在图案化区域处的一部分上;衬底支撑件,用于在保持所述衬底的同时施加所述图案;至少一个定位子系统,用于在顺序移动时相对于彼此移动所述衬底支撑件、所述图案形成子系统和所述图案形成装置,使得将所述图案重复地施加到所述衬底的多个期望部分上,每一部分的所述区域被相对于设置在所述衬底上的对准标记精确地限定;和测量子系统,用于相对于所述图案形成装置测量所述对准标记的所述区域,和用于将测量结果供给至所述定位子系统,其中所述测量子系统包括指向所述衬底的一个或更多的对准传感器,其中所述对准传感器在所述顺序移动过程中是可操作的以识别和测量所述衬底上的对准标记、用于产生更新的测量结果,其中所述定位子系统可操作以结合在相对于彼此定位所述衬底支撑件、所述图案形成子系统和所述图案形成装置时的之前的测量结果使用所述更新的测量结果,用于将所述图案施加至随后的衬底部分上。
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