[发明专利]光刻设备、器件制造方法和施加图案到衬底上的方法

权利要求书

1.一种光刻设备，所述光刻设备布置成将图案从图案形成装置转移到衬底上，所述光刻设备包括：

图案形成子系统，用于接收所述图案形成装置和施加所述图案至所述衬底的保持在图案化区域处的一部分上；

衬底支撑件，用于在保持所述衬底的同时施加所述图案；

至少一个定位子系统，用于在顺序移动时相对于彼此移动所述衬底支撑件、所述图案形成子系统和所述图案形成装置，使得将所述图案重复地施加到所述衬底的多个期望部分上，每一部分的所述区域被相对于设置在所述衬底上的对准标记精确地限定；和

测量子系统，用于相对于所述图案形成装置测量所述对准标记的所述区域，和用于将测量结果供给至所述定位子系统，

其中所述测量子系统包括指向所述衬底的一个或更多的对准传感器，其中所述对准传感器在所述顺序移动过程中是可操作的以识别和测量所述衬底上的对准标记、用于产生更新的测量结果，其中所述定位子系统可操作以结合在相对于彼此定位所述衬底支撑件、所述图案形成子系统和所述图案形成装置时的之前的测量结果使用所述更新的测量结果，用于将所述图案施加至随后的衬底部分上。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述对准传感器的数量是至少3个，所述传感器被引导朝向围绕所述图案化区域分布的所述衬底上的感测区域，使得对于在所述衬底的周边内的任何图案化区域来说，所述感测区域中的至少一个是在所述衬底的一部分之上。

3.根据权利要求1或2所述的光刻设备，其中，所述定位子系统和所述对准传感器是可操作的以在连续的衬底部分之间的过渡移动期间识别和测量所述衬底上的对准标记。

4.根据权利要求3所述的光刻设备，其中，所述测量子系统布置成结合来自用于控制在施加图案至随后的衬底部分上时的定位的之前的运动的测量结果使用在所述过渡移动期间从对准标记获得的测量结果。

5.根据权利要求1、2、3或4所述的光刻设备，其中，所述定位子系统被控制成通过扫描运动将图案从所述图案形成装置逐渐地施加到每一衬底部分上，和其中所述对准传感器是可操作的以在一个衬底部分上的所述扫描运动期间识别和测量所述衬底上的对准标记。

6.根据权利要求5所述的光刻设备，其中，所述测量子系统被布置成结合来自用于控制在施加图案至随后的衬底部分上时的定位的之前的运动的测量结果使用在所述扫描运动期间从对准标记获得的测量结果。

7.根据前述任一权利要求所述的光刻设备，其中，所述一个或更多的对准传感器还包括在所述定位子系统的控制之下在所述衬底和图案形成子系统的相对运动期间可操作的水平感测功能，所述测量子系统记录横跨所述衬底表面的高度变化以及平面尺寸，所述定位子系统控制高度以及根据所述高度变化的所述被施加的图案的平面位置。

8.根据前述任一权利要求所述的光刻设备，其中，所述测量子系统还包括用于相对于所述图案形成装置上的对准标记对准所述衬底支撑件的已知位置的一个或更多的另外的传感器，所述测量子系统结合所述已知的位置与所述相对的区域测量结果，用于所述精确的定位和形成图案。

9.根据权利要求8所述的光刻设备，其中，所述测量子系统被布置成在图案化步骤之前使用所述另外的传感器，用于测量相对于在所述图案形成装置上的所述对准标记的在所述衬底支撑件上的至少两个已知的位置，和使用所述对准传感器来测量在所述两个已知的位置之间的过渡期间相对于所述已知的位置在所述衬底上的对准标记的位置。

10.根据前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述测量子系统包括用于相对于所述图案化区域调整所述对准传感器的位置的致动器。

11.根据权利要求10所述的光刻设备，其中，所述测量系统中的控制器被布置成通过参考针对将被图案化的衬底而接收到的条件手段数据来调整所述对准传感器的位置。

12.根据前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述测量子系统被布置成对来自同一衬底上的不同对准标记的由同一对准传感器在不同时间所进行的测量的结果进行统计组合，或其中所述测量子系统布置成对来自单个对准标记的由不同的对准传感器在不同时间进行的测量的结果进行统计组合，或其中所述测量子系统被布置成对来自单个对准标记的由同一对准传感器在不同时间进行的测量的结果进行统计组合。