[发明专利]一种在晶圆上真空钎焊制作无空洞高可靠凸点的工艺无效
申请号: | 201110262557.9 | 申请日: | 2011-09-07 |
公开(公告)号: | CN102371410A | 公开(公告)日: | 2012-03-14 |
发明(设计)人: | 周海;朱海峰;姜伟;刘帅洪 | 申请(专利权)人: | 中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所 |
主分类号: | B23K1/008 | 分类号: | B23K1/008 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 陆万寿 |
地址: | 710054 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种在晶圆上真空钎焊制作无空洞高可靠凸点的工艺,采用真空钎焊炉进行焊接,焊接过程如下:首先抽真空,其次通入氮气,然后抽真空,再在氮气气氛中预加热至150℃±10℃,然后升温至210℃±10℃,再抽真空,最后水冷降温、回充氮气。本工艺技术结合漏印工艺方法,实现了直径150微米、高度100微米以及间距250微米的小尺寸凸点的制作。工艺一致性好,流程简单、生产效率高、成本低廉、适于大批量生产。漏印的BGA凸点高度容差小于3.0μm,线性一致性小于5μm,剪切强度、接触电阻等指标均满足可靠性要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶圆上 真空 钎焊 制作 空洞 可靠 工艺 | ||
【主权项】:
一种在晶圆上真空钎焊制作无空洞高可靠凸点的工艺,其特征在于,采用真空钎焊炉进行焊接,焊接过程如下:首先抽真空,其次通入氮气,然后抽真空,再在氮气气氛中预加热至150℃±10℃,然后升温至210℃±10℃,再抽真空,最后水冷降温、回充氮气。
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