[发明专利]一种碱性的清洗液无效
| 申请号： | 201110257761.1 | 申请日： | 2011-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN102968001A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 刘兵;彭洪修;孙广胜 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种碱性清洗液，其不含羟胺和任何氟化物。其特征是含有水、醇胺、水溶性溶剂和3，4-二羟基苯甲酸。该清洗液对非金属和金属的腐蚀速率较低，能够同时去除金属线(metal)、通孔(via)和金属垫(Pad)晶圆上的光阻残留物。因此该新型的清洗液在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 碱性 清洗 | ||
【主权项】：
一种碱性的清洗液，含有：水、醇胺、水溶性溶剂和3，4‑二羟基苯甲酸，且不含有羟胺和氟化物。
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