[发明专利]使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的装置及其方法无效
| 申请号： | 201110257264.1 | 申请日： | 2011-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN102965636A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 周军;傅昶 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 陆花 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的装置，包括用于支撑基片的承载台，承载台包括控制单元，用于控制承载台的移动；侦测器，用以测量靶消耗的厚度，侦测器与控制单元信号连接。本发明还提供了一种使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的方法，包括利用侦测器测量靶消耗的厚度值，并将厚度值发送至承载台的控制单元；控制单元根据靶消耗的厚度控制承载台移动的距离。本发明提供的使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的装置，利用承载台中的控制单元控制所述承载台的移动，以弥补由于靶材消耗引起的靶有效表面与承载台上的待镀基片之间距离的变化，同时调整靶材下表面与磁体之间的距离使之保持不变，最终使物理气相沉积薄膜的厚度保持不变，保证了工艺质量，使整个工艺过程可控性更高。 | ||
| 搜索关键词： | 物理 沉积 薄膜 厚度 稳定 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的装置，其特征在于，包括：用于支撑基片的承载台，所述承载台包括控制单元，用于控制所述承载台的移动；侦测器，用以测量靶消耗的厚度，所述侦测器与所述控制单元信号连接。
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