[发明专利]一种小尺寸晶圆样品结构截面观察的样品制备方法无效
申请号: | 201110245009.5 | 申请日: | 2011-08-25 |
公开(公告)号: | CN102426119A | 公开(公告)日: | 2012-04-25 |
发明(设计)人: | 张涛 | 申请(专利权)人: | 上海华碧检测技术有限公司 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28;G01N23/22 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200433 上海市杨*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种小尺寸晶圆样品结构截面观察的样品制备方法,包括以下步骤:A、将需要分析的小尺寸晶圆样品通过手工裂片和手工研磨推进的方法,制备出一个接近需要观察的目标区的截面样品;B、使用聚焦离子束分析仪沿已经制备出接近目标区的截面样品进行定点抛光,直至抛光到需观察结构目标区的中心位置;C、将抛光好的截面样品从聚焦离子束分析仪中取出,放入扫描电子显微镜中观察,找到需要分析的目标区,拍出目标区截面的扫描电子显微镜照片,测量Y方向高度,完成小尺寸晶圆样品结构截面分析工作。本发明在没有定点切割机的条件下,使用聚焦离子束分析仪和扫描电子显微镜进行小尺寸晶圆样品结构截面Y方向高度的精确测量。 | ||
搜索关键词: | 一种 尺寸 样品 结构 截面 观察 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种小尺寸晶圆样品结构截面观察的样品制备方法,其特征在于:该方法包括以下步骤:A、将需要分析的小尺寸晶圆样品通过手工裂片和手工研磨推进的方法,制备出一个接近需要观察的目标区的截面样品;B、使用聚焦离子束分析仪沿已经制备出接近目标区的截面样品进行定点抛光,直至抛光到需观察结构目标区的中心位置;C、将抛光好的截面样品从聚焦离子束分析仪中取出,放入扫描电子显微镜中观察,找到需要分析的目标区,拍出目标区截面的扫描电子显微镜照片,测量Y方向高度,完成小尺寸晶圆样品结构截面分析工作。
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