[发明专利]流体处理结构、光刻设备及对应的模块、和器件制造方法无效
| 申请号： | 201110242590.5 | 申请日： | 2011-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN102375348A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | P·威勒姆斯;N·坦凯特;A·N·兹德瑞乌卡夫;R·H·M·考蒂;P·J·克拉莫尔;S·考埃里恩克;A·奎吉普 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种流体处理结构、一种用于浸没式光刻设备的模块、一种光刻设备以及一种器件制造方法。所述流体处理结构在从配置用于包含浸没流体的空间至所述流体处理结构外部区域的边界处相继设有：弯液面钉扎特征，用以阻止浸没流体沿离开所述空间的径向向外的方向流动通过；和弯液面钉扎特征的径向外侧的流体供给开口，用以供给可溶解于浸没流体的流体，通过溶解至浸没流体中能够降低浸没流体的表面张力。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 处理 结构 光刻 设备 对应 模块 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的流体处理结构，所述流体处理结构在从配置用于包含浸没流体的空间至流体处理结构外部的区域的边界处相继地设置有：弯液面钉扎特征，用以阻止浸没流体沿离开所述空间的径向向外的方向流动通过；和弯液面钉扎特征的径向外侧的流体供给开口，用以供给可溶解于浸没流体中的流体，其通过溶解至浸没流体能够降低浸没流体的表面张力。
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