[发明专利]一种干涉曝光装置及方法有效
| 申请号： | 201110241758.0 | 申请日： | 2011-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN102955365A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 许琦欣;王帆 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种干涉曝光装置，包括：一光源，用于提供曝光光束；一干涉头，用于将所述曝光光束形成至少两束干涉光束并会聚于基底表面形成一干涉曝光图形，所述干涉头沿垂向做一维运动；一运动承载单元，用于提供所述基底至少三自由度运动；一测量单元，用于获得所述干涉头坐标系与所述运动承载单元坐标系的夹角，以便在对所述基底曝光之前依据所述测量单元的测量结果对所述运动承载单元的曝光位置进行调整。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 干涉 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种干涉曝光装置，其特征在于，包括：一光源，用于提供曝光光束；一干涉头，用于将所述曝光光束形成至少两束干涉光束并会聚于基底表面形成一干涉曝光图形，所述干涉头沿垂向做一维运动；一运动承载单元，用于承载所述基底，并提供所述基底至少三自由度运动；一测量单元，用于获得所述干涉头坐标系与所述运动承载单元坐标系的夹角，以便在所述基底曝光前依据所述测量单元的测量结果对所述运动承载单元的曝光位置进行调整。
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