[发明专利]一种干涉曝光装置及方法

权利要求书

1.一种干涉曝光装置，其特征在于，包括：

一光源，用于提供曝光光束；

一干涉头，用于将所述曝光光束形成至少两束干涉光束并会聚于基底表面形成一干涉曝光图形，所述干涉头沿垂向做一维运动；

一运动承载单元，用于承载所述基底，并提供所述基底至少三自由度运动；

一测量单元，用于获得所述干涉头坐标系与所述运动承载单元坐标系的夹角，以便在所述基底曝光前依据所述测量单元的测量结果对所述运动承载单元的曝光位置进行调整。

2.如权利要求1所述的干涉曝光装置，其特征在于，所述干涉头包括至少两组光栅且光栅周期及位置能够与待曝光的图形周期及分布特征相一致和至少两个测量单元识别标记。

3.如权利要求2所述的干涉曝光装置，其特征在于，所述干涉头包括三组正六边型光栅，所述正六边型光栅栅线之间呈120度排列，以在所述基底上形成六边形分布的密集孔阵列。

4.如权利要求2所述的干涉曝光装置，其特征在于，所述干涉头包括两组矩型光栅，所述光栅平行排列，且光栅栅线之间互相平行，以在所述基底上形成密集线结构。

5.如权利要求1所述的干涉曝光装置，其特征在于，所述干涉曝光装置还包括一匀光准直单元，所述匀光准直单元用以将所述光源出射的曝光光束均匀准直。

6.如权利要求1所述的干涉曝光装置，其特征在于，所述运动承载单元上包括一运动承载单元标记。

7.如权利要求1所述的干涉曝光装置，其特征在于，所述运动承载单元与所述基底之间还放置一光阑。

8.如权利要求5所述的干涉曝光装置，其特征在于，所述匀光准直单元与所述干涉头之间还包括一反射镜。

9.如权利要求1所述的干涉曝光装置，其特征在于，所述干涉头可替换。

10.如权利要求2所述的干涉曝光装置，其特征在于，所述干涉头的光栅区域与曝光场形状相同。

11.一种干涉曝光方法，其特征在于，包括：

加载干涉头，及加载待曝光基底于运动承载单元上；

利用一测量单元测得所述干涉头坐标系与所述运动承载单元坐标系之间的夹角；以及根据所述夹角及设定的曝光场位置更新所述运动承载单元的曝光位置；

将所述运动承载单元运动至所述更新后的曝光位置；以及

将光源发出的光束经所述干涉头形成的至少两束干涉光束会聚于所述基底表面，逐场曝光所述基底。